晶硅片的清洗工艺控制探讨

钟 　峰
四川晶科能源有限公司

摘要


晶硅片作为集成电路制造中至关重要的材料之一，其表面清洁度会对器件的性能以及稳定性造成直接影响，
通过对清洗工艺进行控制，有助于提高晶硅片的表面洁净度，还可提高半导体器件制作过程中的可靠性以及稳定性，
为此在实际工作中，就需要准确掌握晶硅片清洗工艺参数及其影响因素，积极采取相应的优化以及改进工艺，这样
才能保证晶硅片表面清洁度达到相关要求。为此本文将针对这一内容进行研究，以期能为相关人员提供借鉴。

关键词


晶硅片；清洗工艺；控制探讨

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