从源头控制ICP-MS中氧化物离子产率的方法

蔡 学建1, 彭 晶镭1, 冯 晶晶1, 袁 泉2, 陶 然3
1、黄石市城发环境检测技术有限公司
2、湖北朗驰环境技术有限公司
3、黄石市城发环境检测技术有限公司;湖北朗驰环境技术有限公司

摘要


氧化物离子干扰是ICP-MS分析中最常见的质谱干扰之一,氧化物离子产率是国家计量技术规范JJF1159-2006中的重要技术指标,在实际分析过程中需要注意控制氧化物离子产率,从而控制氧化物离子干扰。本文介绍了ICP-MS分析中氧化物离子干扰产生的原因,并结合仪器参数调节、仪器组件维护、加入基体改进剂、应用联用装置方面,阐述从源头控制ICP-MS中氧化物离子产率的方法,为控制氧化物离子干扰和仪器计量提供一定的参考依据。

关键词


电感耦合等离子体质谱;氧化物离子;产率;干扰

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参考


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