基于DOE方法的ITO透明电极制备工艺优化研究

韩 滨, 赵 凡, 谭 玉蔚
中国建筑材料科学研究总院有限公司

摘要


电致变色玻璃应用中，ITO透明电极的方阻均匀性直接影响器件的响应速度、功耗及使用寿命。本文以电
子束蒸发法制备ITO薄膜为基础，采用实验设计（DOE）方法系统研究了沉积速率、基片温度、氧流量等关键工艺
参数对方阻均匀性的影响规律。通过全因子实验设计和响应曲面法（RSM）建立了工艺参数与方阻均匀性之间的数学
模型，确定了最优工艺参数组合。研究结果表明：当沉积速率为2.5 Å/s、基片温度为300℃、氧流量为50 sccm时，ITO
薄膜方阻均匀性最佳，方阻值可控制在10-15 Ω/□范围内，可见光透过率大于85%，满足电致变色玻璃的应用要求。

关键词


DOE；ITO薄膜；电子束蒸发；方阻均匀性；电致变色玻璃；响应曲面法

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参考


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