光刻技术在集成电路制造中的应用及教育探索

刘 家辰
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院

摘要


本文旨在深入剖析光刻技术于集成电路制造中的核心作用、应用情况及关键技术发展态势,并探索其在高校教育层面的融合路径,助力集成电路产业人才培养。通过文献研究、案例分析及实地调研等方法,梳理光刻技术原理、工艺流程等内容,同时结合产业需求,在高校构建合理课程体系、创新教学方法并搭建实践平台。结果显示,这些举措有助于提升学生对光刻技术的掌握程度,增强实践能力。结论表明,重视光刻技术在教育领域的应用,能为集成电路产业输送高素质专业人才,推动产业与教育协同进步,对产业长远发展意义重大。

关键词


光刻技术;集成电路制造;高等教育;人才培养

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参考


[1]韦亚一,超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M],科学出版社,2016.

[2]吴汉明,郑飞君,关于后摩尔时代我国集成电路制造领域的一些思考(英文)[J],Engineering,2023,23(04):33-39.

[3]陈宝钦,光刻技术六十年[J],激光与光电子学进展,2022,59(09):518-538.

[4]李艳丽,刘显和,伍强,先进光刻技术的发展历程与最新进展[J],激光与光电子学进展,2022,59(09):86-102.

[5]陈宝钦,微光刻与微纳米加工技术[J],微纳电子技术,2011,48(01):1-5.

[6]张德远,微纳米制造技术及应用[M],科学出版社,2015.

[7]吴启琴,沈克强,赵俊霞,任丽丽,孙小羊,集成电路制造技术课程的改革探索[J],创新创业理论研究与实践,2023,6(23):52-54.

[8]梁惠康,段辉高,电子束光刻设备发展现状及展望[J],科技导报,2022,40(11):33-44.


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