射频磁控溅射ZnSe薄膜的结构性质

窦 耀然, 王 启明
延边大学理学院

摘要


本论文采用射频磁控溅射技术在单晶硅(111)制备了ZnSe薄膜。并研究了溅射压强对薄膜性能的影响。X射线衍射(XRD)分析显示所制备的ZnSe薄膜具有好的结晶性，其晶体为立方闪锌矿结构且以(111)晶面为择优取向。随着溅射压强的逐步提升薄膜的晶粒尺寸变化趋势均为先增大后减小的趋势。扫描电子显微镜（SEM）的薄膜的表面形貌始终保持致密，紧实无孔洞，没有发现明显的裂纹或缺陷，这表明溅射压强对晶粒生长有明显的影响而对薄膜的整体致性质影响较小。这对于制备太阳能电池期间具有很重要的意义。

关键词


磁控溅射；ZnSe薄膜；结构性质

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参考


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