化学机械研磨中表面粗糙度演变数据建模与动态预测研究

陈 桂霖, 张 盼
浙江驰拓科技有限公司

摘要


化学机械研磨（CMP）作为先进制造中的关键精密加工工艺，表面粗糙度的稳定控制对后续工艺和终端产品性能具有决定性影响。传统粗糙度控制多依赖事后检测，存在响应滞后、调整不精准等问题，难以满足现代工艺对表面质量实时性与一致性的要求。本文结合多批次CMP工艺数据，通过建立粗糙度演变数据建模与预测机制，系统构建了多因子输入、非线性输出的动态预测模型，并设计了适应性参数更新机制与工艺系统耦合路径。研究结果表明，该模型可有效识别粗糙度演变趋势，对突发波动具有较强预警能力，具备良好的工程部署价值。该研究为CMP智能工艺控制提供了可推广的技术路径。

关键词


化学机械研磨；表面粗糙度；数据建模；动态预测；工艺控制

全文:

PDF


参考


[1]刘俊杰.晶圆化学机械研磨(CMP)用CVD金刚石修整碟制造要点[J].造纸装备及材料,2023,52(7):84-86.

[2]乔骁骏,薛刚,丑修建.铌酸锂单晶薄膜化学机械抛光及极化研究[J].功能材料,2024,55(9):9222-9228.

[3]毛永伟,孙铭霏,李钊,等.干法超细研磨中黑滑石的机械力化学效应[J].金属矿山,2023(2):107-113.

[4]张光文,姜涛,丁立鑫,等.机械研磨强化废旧锂电材料选择性提锂[J].中国有色金属学报,2024(1).

[5]李学彪,施意华,付伟,等.机械研磨对离子吸附型稀土矿石中稀土赋存形态的影响[J].有色金属工程,2024,14(3):111-121.


Refbacks

  • 当前没有refback。