半导体工厂废气中H2基于膜分离的提纯与循环系统
摘要
研究基于膜分离的H2提纯与循环系统在半导体废气工况下的可行性和运行特性。建立线性渗透—级联膜工
艺模型(Φ=1000 GPU),以进料100 Nm3·h-1、不同H2含量为基准开展数值模拟,并在工厂并网后进行14天现场
监测(指标:膜通量J、回收率η、产物纯度与单位能耗)。仿真得出20% H2工况下膜面积约8.55 m2、目标回收率
90%、产物纯度>99.9%;现场运行呈现膜通量19.5%衰减、回收率下降至84%、能耗上升约30%。膜法回收具有可行
性与节能潜力,但需优化前处理与运维策略以抑制毒化导致的性能衰退并确保长期经济性。
艺模型(Φ=1000 GPU),以进料100 Nm3·h-1、不同H2含量为基准开展数值模拟,并在工厂并网后进行14天现场
监测(指标:膜通量J、回收率η、产物纯度与单位能耗)。仿真得出20% H2工况下膜面积约8.55 m2、目标回收率
90%、产物纯度>99.9%;现场运行呈现膜通量19.5%衰减、回收率下降至84%、能耗上升约30%。膜法回收具有可行
性与节能潜力,但需优化前处理与运维策略以抑制毒化导致的性能衰退并确保长期经济性。
关键词
氢回收;膜分离;半导体废气;数值模拟
全文:
PDF参考
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