755nm激光序贯中胚层治疗太田痣的色素清除效率分析

邓 莉华, 宋 红霞, 尚 丽丽
上海源锐门诊部

摘要


目的：探讨755nm激光序贯中胚层治疗太田痣的色素清除效率。方法：选取本院2023年6月－2024年6月太田痣患者82例纳入研究，随机分为2组，对照组采用755nm激光治疗，研究组采用755nm激光序贯中胚层治疗。比较治疗2、4、6个月后的疗效；记录平均恢复时间、达到有效时间、达到显效时间；比较两组治疗前及治疗2、4、6个月的皮肤黑素指数（MI）和红斑指数（EI）；比较两组并发症发生情况。结果：两组治疗2个月后的总有效率差异无显著性（P＞0.05），研究组治疗4、6个月后的总有效率高于对照组（P<0.05）。研究组平均恢复时间、达到有效时间、达到显效时间短于对照组（P<0.05）。两组治疗2、4、6个月后的MI、EI下降，研究组低于对照组（P<0.05）。两组并发症差异无显著性（P＞0.05）。结论：755nm激光序贯中胚层治疗太田痣能提升色素清除效率，缩短恢复时间，提升美学效果，不会增加并发症，安全有效，值得推广。

关键词


755nm激光；序贯治疗；中胚层治疗；太田痣；色素清除效率

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参考


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